Gary Smith EDA Consulting in Electronic Design

Gary Smith EDA (GSEDA) is the leading provider of market intelligence and advisory services for the global Electronic Design Automation (EDA), Electronic System Level (ESL) design, and related technology markets.

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    2009年亞太地區電子設計自動化會議

    2009年亞太地區電子設計自動化會議


    今年亞太地區電子設計自動化會議的與會人數,維持在一個合理的水平.會議的 內容十分活潑,技術研究成果的發表上也相當傑出.

    第一個專題演講: 齊藤光男, TOSHIBA

    一些新興的EDA公司,依然非常積極的發表新的軟體工具.整體而言,整體EDA產 業並沒有出現整合的局面,但在某些區塊的EDA領域中,整併仍持續進行.

    齊藤先生舉Toshiba的設計為例,說明電子設計從過去到現在的演變,並預測直至 2017年,對於專屬特定功用之硬體與軟體的偕同設計將成為未來的趨勢.與此同 與此同時,未來十年內的設計將持續關注在耗電量的問題上. ESL方法論座談會 硬體供應商的數量越少,硬體的種類也會隨之減少,但軟體的設計成本或許因此 會隨之下降.未來如果軟體設計成本持續上升,或許就無法支援各類型的設計平 台,而軟體設計也不會有標準化的情況產生.

    ARM 仍持續系統單晶片設計的訊息令人注目. 第三個專題演講: LEON STOK, IBM

    由於產品的複雜性以及所費時間甚長,以模型為基礎的DFM軟體設計工具並沒 有被廣泛接受.

    相較於限制性的設計規則(RDR)告訴設計者”你不可以(禁止)這麼設計”,規範性 的設計規則(PDR)反而是以”你可以如何設計” 的角度來引導設計者. 規範性的 設計規則(PDR)可以說是一組允許設計者如何設計,同時具有一組允許佈局配置 的指定模式設計規則.使用規範性的設計規則(PDR),可以得到可預測的設計的 效益,並在推估電路績效的情況下,預測佈局的結構.

    浸入式的光刻技術亦可減少DFM工具的使用.在32奈米的應用上, 浸入式光刻的 主要工作都將投入於調整光刻到被允許的功能上. 不過, 傳統65奈米使用的雙內 連線軌則將不適用在更微小的32奈米技術上.

    當電子設計進入32奈米之後,現前的提取模型(extraction model)將面臨重新修改. 但如果使用規範性的設計規則(PDR)來做設計,需要修改的模型數量會減少,不 過,這同時需要非常清晰的定義每一個單元電路的界限在哪裡.

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